5月 20日，荷兰 ASML 公司制造新一代EUV光刻机，登上热搜。

EUV，即 ASML 最先进的机器所使用的光波波长，指的是电磁波谱中波长从 121 纳米到 10 纳米的电磁辐射所在的频段。ASML CEO 彼得·温宁克（Peter Wennink）告诉媒体，过往 10 年间该公司已出售大约 140 台 EUV 光刻机，单价约 2 亿美元一台。 

据报道，ASML 正制造新款极紫外光线（EUV，extreme ultraviolet）光刻机，预计每台售价约 4 亿美元，或将在 2023 年上半年完成制造，并有望在 2025 年用于芯片供应商。

为了实现在2nm世代制造更精细的半导体，我们需要具有高产能和高数值孔径 (High-NA) 的下一代 EUV 曝光系统。

据悉，该光刻机重达 200 多吨，有“双层巴士”那么大。据报道，ASML正制造新款极紫外光线（EUV）光刻机，预计每台售价约4亿美元，或将在2023年上半年完成制造，并有望在2025年用于芯片供应商。

ASML希望从2024年起在客户工厂安装该机器。ASML宣布，即将推出的EUV已经有五家以上的客户订购。该机器有望使芯片电路减少66%。

ASML与imec正在讨论更深度的合作，未来推出1nm以内的光刻机。且2036年可制作0.2nm芯片。（半导体行业联盟）